PLUTO-E100型科研型等离子体干法刻蚀（ICP/CCP）系统是一款低成本，适合于科研机构实验室的桌面型科研设备，整套系统的目的是在4寸以及以下的样品上进行干法刻蚀。该系统包括反应腔室，真空系统，RF射频系统，反应气路系统，电器控制，软件程序等几个子系统。