等离子去胶机是一种环保的半导体制程前减薄过程中清洗化学机械研磨残胶的设备，主要应用于集成电路制造业、光电子工业及液晶显示器行业。等离子去胶机以气体放电为驱动力，在实验室里常用非惰性气体，如纯氧、氮和氦。经过电离处理而产生的活性物质，可以将表面染料分解为无毒性分子，去除表面胶片使得后续工序不会受到残留杂质污染。
等离子态(PlasmaState)，是由电子与离子(或大分子)相互作用产生的一种气体。在等离子体状态下，气体分子中的部分或者全部电子和分子离开了原有结构，形成了大量的离子电子和自由基。等离子体具有很高的反应活性，能够把气体分子转化成带正/负电荷的粒子，从而改变物质性质，改善表面性能。
在一定压强和电压下，通过气辉放电的方式产生等离子体，并将其直接喷向被处理表面，形成化学反应区域。等离子体能够解离化学键并且改变分子结构，从而清洗掉表面的涂层粘性杂质污染，去除提示性化学机械研磨残留残膜，并且增加表面的活性，提升表面润湿性和附着力。清洗后表面不会出现新的残胶或者其他污染物，这使得等离子去胶技术成为典型的原位清洗、处置技术。
等离子去胶机的优势：
1.可去除微米级别的污染.
2.可去除残留污染表面，在减少手工操作方面有明显的时间和成本优势.
3.清洗过程不需要使用溶剂溶液，更加环保，因此不会引起二次污染及消耗大量的资源.
4.可以对多种不同物质进行去胶，具有广泛适用性.
等离子去胶机在集成电路制造、光电子工业及液晶显示器行业的特殊清洁要求下得到了广泛的应用。在运作过程中，普遍存在电磁干扰现象，操作时需主意安全，定期维护设备。为确保能够稳定的使用，建议将其放置在防静电环境下，并按时检测机器的电场功率密度变化情况等信息，从而提升机器设备的长期稳定性和可靠性。
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